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Terra零件# 价格 船只
120 V. 392°F. 77°至392°F 9505-00.25458 7,005美元 5 - 7天 2
库存
120 V. 392°F. 77°至392°F 水冷 9505-01.25460 7,660美元 5 - 7天 3.
库存
240 V. 392°F. 77°至392°F 9505-00-22031929. 7,372美元 5 - 7天 4.
库存
240 V. 392°F. 77°至392°F 水冷 9505-01-22031931 7,610美元 5 - 7天 5.
库存
120 V. 392°F. 77°至392°F 9505-02.25462 $ 6,802 5 - 7天 6.
库存
120 V. 392°F. 77°至392°F 水冷 9505-03.25464 7,789美元 5 - 7天 7.
库存
120 V. 392°F. 77°至392°F 水冷 9505-1925481 $ 9,084 5 - 7天 8.
库存
120 V. 392°F. 77°至392°F 水冷 9505-20.25483 $ 8,782 5 - 7天 9.
库存
240 V. 392°F. 77°至392°F 9505-02-22031933 $ 7,495 5 - 7天 10
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240 V. 392°F. 77°至392°F 水冷 9505-03-22031935. $ 8,113 5 - 7天 11
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240 V. 392°F. 77°至392°F 水冷 9505-19-22031940. 9,336美元 5 - 7天 12
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240 V. 392°F. 77°至392°F 水冷 9505-20-22031942 $ 9,458 5 - 7天 13
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自定义配置的产品:Terra将引用。
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产品详细信息

•使用微波炉产生等离子体清洁介质

•安全地从一系列元件和基材中除去污染物

•不产生显着的污水,消除废物处理问题 - 与溶剂清洁不同

•在连续和循环中轻松调整功率水平

•易于使用和维护

•保持较低的加工温度(25°C -200°C可控)

•生产高达700瓦的等离子体功率和密度

•保持低处理温度

•包括:电源,数字定时器,占空比,时钟,记忆和反应室

专业清洁系统

  • 无尘室等离子清理器和腐蚀剂 无尘室等离子清理器和腐蚀剂
无尘室等离子清理器和腐蚀剂

特点与优势

特点和优惠

Plasma-Preen清洁剂腐蚀装置

等离子 - 预擦拭器/蚀刻器

  • 首创采用微波炉产生等离子清洗介质的设计
  • 安全地从各种部件和基材中除去有机和许多无机污染物
  • 保持较低的加工温度(25-200°C可控)
  • 生产更高的等离子体功率和密度,而不是相当于价格的系统 - 高达700瓦
  • 不产生显著的流出物,消除废物处理问题-不像溶剂清洗
  • 允许轻松调整连续和循环的功率水平
  • 易于使用和维护
应用程序

这些都是建议的应用程序。请检查您的流程工程师以确保材料兼容性。系统可能不会删除沉重的结核。

  • 无离子阱氩等离子清洗*
  • 具有环氧键的基材
  • 丝焊垫
  • PD-AG模具连接垫
  • 镀金零件
  • 焊料预制件
  • 环氧流血
  • 焊接准备
  • 光致抗蚀剂去除
  • 可氧化的金属表面
  • 金色或铝线
  • 去除一些金属氧化物
  • 没有离子的氧等离子体清洁
  • 光致抗蚀剂去除
  • 裸陶瓷基板
  • 去除塑料密封剂进行故障模式分析
  • 玻璃部分
  • 镀金零件
  • 金属氧化物零件
  • 砷化镓
  • 制备氟碳和其他胶合塑料
  • 磷化铟
  • 氩等离子清洁与Iontrap **
  • 具有敏感芯片的设备
  • 激光二极管方面
  • 软焊料陶瓷
  • PC板带柔软焊料
  • 用离子阱清洗氧等离子体
  • 用作下游等离子体蚀刻器
  • 具有光致抗蚀剂的敏感组件

*系统包括合适的调节器。单独订购泵。
** IONTRAP形成法拉第笼,以中和电荷的离子并保护工作免受微波炉。

等离子体预防清洁剂/蚀刻器是其价格范围内的第一个商业产品,它使用微波能量(2.45GHz)来清洁来自各种部件和材料的有机和一些无机污染物,包括半导体,陶瓷和金属。

等离子体预液清液器使用的微波能量在可调节的功率下产生等离子体(电中性,高电离气体),其用作安全,有效的清洁介质。当微波能量与工艺气体反应时,这种等离子体会产生这种等离子体;然后是高反应性和/或能量的血浆然后“穴位”和/或与污染物的污染物从被清洁的材料表面中脱落,使其原子清洁。

安全,高效的等离子生成彻底改变清洁操作

这种清洁方法以多种方式彻底改变了现有的清洁操作。与化学加工不同,微波生成的等离子体消耗非常小的反应物,并产生显着的流出物。在氩业务的情况下,没有产生浪费;氧气运营仅产生少量的二氧化碳和水,不需要精细的废物处理。结果,这种清洁系统提供了急剧降低的加工成本 - 仅是通常需要的化学技术的一小部分!

此外,微波产生可以将工艺温度控制在25°C到200°C之间。低工艺温度使您能够清洁更广泛的各种敏感组件,而不必担心热损害。

这种等离子吸尘器还提供了节省空间的便携性。而不是笨重的排气通风柜,排气排气孔,和保护服装,你工作与一个完全安全,紧凑的单元,字面上的面包盒大小。

微波能量增强了多功能性

与传统的依靠电容或电感耦合等离子体设备产生等离子体的方法相比,该装置也有很多优点。最重要的是,在这个价格范围内,它能够产生比以往任何时候都可能产生的更高的等离子功率和等离子密度。而且因为它在更高的气体压力下工作,你可以获得更高的反应速率(和更强的清洁能力)。这意味着更灵活的应用,从清洁激光二极管切面或敏感的金属焊盘,到清除某些金属氧化物和清洁焊料预制件。

与其他等离子体产生方法不同,等离子体 - PREEEN系统使用2.45 GHz辐射,从而降低了损坏组件的可能性。它还具有适用于占空比和/或模拟控制的完全可调功率水平。数字计时器,占空比,时钟和内存允许完全可重复的结果,并让您设计在每个应用程序中调用的确切清洁过程。

多功能系统配置,满足您的所有清洁需求

等离子体预防蚀刻器有两个版本:桶式反应器和水冷单元(用于具有温度敏感工作的应用,用于更好的控制,以及更大的反应器室)./ P>

桶形反应器是需要高能量清洗的应用的理想选择,例如去除陶瓷表面的金属氧化物。如果更高的温度不是一个关键的问题,你可以在最高的等离子功率操作清洁更快的结果。如果必须保持较低的温度,您可以简单地降低等离子体功率(并在较长时间内进行清洗操作),或者您可以选择水冷机组,它允许在较低的温度下提高处理速度。该模型的特点是水冷基板,有效地“散热”正在进行的工作,并建议混合清洗。可选的水循环系统加强了水冷却。

无论是设计都可以用氧气,氩气或其他工艺气体(参见上面的蓝色框中的“应用”)。通常,氩气适用于涉及环氧树脂粘合表面的应用,因为它不会“溅射”环氧树脂。它还是除去金属氧化物的优选培养基。氧气,因为它攻击环氧树脂,应在环氧键合的存在下选择性地使用。然而,它是清洁陶瓷或氧化物部件的污染物的理想选择。

选择可选的离子疏水阀以保护从等离子体的溅射作用保护非常敏感的材料(例如激光二极管刻面或软焊料)。该陷阱用于双重功能:它中和带电的离子(仅留下中性的自由基以执行清洁动作),并且它充当法拉第笼,屏蔽室内微波的工作。

灵活的应用意味着提高生产率

这种更清洁的尺寸和灵活性不仅大大提高了现有的清洁方法,它还可以让您在运营中引入标准清洁程序,没有可行的方法。通过在晶片处理步骤之间进行清洁操作,或通过在引线键合之前清洁模具,或通过从PC板上除去有机污染物,可以通过在每个步骤之间进行清洁操作来改善组件可靠性(并提高生产率)。

而且你不必担心污染排气,笨重的引擎盖或未重复的结果。

所有系统都配有电源,数字计时器,占空比,时钟,存储器和反应室。等离子Preen控制器(单独订购)包含操作所需的所有真空和气体控制,并为真空泵和水循环系统提供动力。需要单独的供气、真空泵和控制器来运行。

  • 系统维: 24"宽x 10"高x 15"深610毫米x 254毫米x 381毫米
  • 材料
    • 桶反应堆系统:Pyrex.
    • 水冷系统:Pyrex和铝力
    • 频率:2.45 GHz
  • 周期:从10%到连续
  • 公用事业需要:真空泵供气(氧气或氩气)

警告:氧气应用需要特殊的泵准备或爆炸可能会导致爆炸。用氧气指定泵No.7901-35。

等离子预防桶式反应器

控制器,等离子体预防;110V,50 / 60Hz

使用微波能量(2.45GHz)清洁来自各种部件和材料的污染物,包括半导体,陶瓷和金属,而不会产生流出物或离开残留物。

可用配件

热门配件

要获得完整的配件列表,请选择一个产品,然后单击选择配件在该产品页面上。
  • 洁净室等离子预防控制器
    洁净室等离子预防控制器
    提供对真空和气体净化的完全控制
  • 水再循环系统
    水再循环系统,等离子预防
    提供水再循环,以便有效地运行水控等离子体预防

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手册和资源

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  • Fastrak 24/7保证*满足双方约定的装运日期。

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